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光刻机美国提供什么技术？
ASML光刻机的光源来自美国一家名叫Cymer公司的光源技术提供商。
光刻机是哪个国家发明的？
是美国发明的。
早在上个世纪五十年代中期，美国贝尔实验室便开始尝试将图像打印到硅片上。
在1957年，美国陆军Diamond Ordnance Fuse实验室的Jay Lathrop和James Nall，获得了光刻技术的专利。短短一年后，Jay Last和Robert Noyce更是利用光刻技术，在单个晶圆上制造出了晶体管。
光刻机发明的故事？
20世纪60年代初，美国贝尔实验室的研究人员David N. Payne和Ronald C. Wittmann发明了一种利用激光光束进行光刻的方法。他们使用了一种叫做光致电离的现象，通过激光将一种化学物质转化为一种有机气体，从而形成所需的电路图案。
1965年，日本NEC公司的研究人员Yasuo Doi和Eiichi Kondoh发明了第一台光刻机，采用了光致电离的方法。该光刻机可以将电路图案刻在硅片上，使之成为可用于芯片制造的基础。这一发明开启了半导体行业的新时代，使得芯片制造成为可能。
在随后的几十年里，光刻机得到了不断的改进和完善，成为了半导体行业中不可或缺的工具。现代的光刻机能够在纳米级别上进行精确制造，为半导体行业的发展和进步奠定了坚实的基础。
光刻机是干什么用的，工作原理是什么？
光刻机中国能制造，但是精度不如国外。 中国科学院成都光机所和四十五所，能制造接近接触式光刻机。 上海微电子装备有限公司能够制造投影式光刻机。在LED、IC后道和平板显示的微米级光刻机都有不少销量。IC前道光刻机分辨力要求较高，目前只能制造百纳米或几十纳米级别光刻机，而国外已经推出13纳米的光刻机了。 核心技术包括投影物镜、精密运动台和精密测量系统等。对于最先进的光刻机，关键的镜片、传感器和电机等依靠进口。
euv光刻机是谁制造的？
euv光刻机是荷兰ADML公司制造的。
荷兰ASML公司是一家总部设在荷兰埃因霍温（Eindhoven）的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。